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伴随着国际形势的不断变化，各国科技发展竞争日趋激烈，电子元件成为大国博弈的焦点。我们的电子行业工业基础比较薄弱，许多国内器件和通用芯片长期依赖进口。然而，从产业链发展趋势中不难看出，电子产业向我国转移已是不可逆转的趋势，在这样的大周期下，电子行业国产自主可控的步伐势不可挡。

在我国制造业中，电子行业可分为消费类电子、半导体、面板、 LED、 PCB和被动元件等，在我国制造业中占有重要地位。当前，国际环境压力加大，产业转型主动性增强，我国电子产业迎来了非常重要的机遇时期。

电子器件是电子器件的重要组成部分，由于其集成度高，生产线狭窄，对水质的要求特别高。所以，在我国电子工业的重要“机遇期”，需要能满足电子工业用水需求的设备。

电子业对水中离子含量的要求很高，传统的超纯水制备工艺多采用离子交换树脂来制取，而使用离子交换树脂则经常需要定期进行树脂再生，既费力又费力。采用的靶向离子交换系统，莱特莱德电子级超纯水设备对难处理的硼离子和其它离子进行定向去除，同时也能连续稳定地产生高纯度的超纯水。应用于晶圆、电子芯片、集成电路、精密仪器、电镀涂装、***稀释、氟化工等行业。

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在半导体生产中，超纯水被用来清洗晶圆、化学***稀释、化学机械研磨、净化室内环境的加湿源等许多场合，超纯水的质量直接关系到半导体产品的质量。由于半导体元件尺寸小、精度高，对超纯水水质的技术要求也越来越高，在超纯水的生产过程中，只要微粒、电阻率、 TOC、气泡中的一个指标出现轻微差异，就会使半导体元器件的合格率下降。

超纯水生产自然需要超纯水设备。常规的超纯水设备需要再生，不能连续产水，不仅效率低，而且浪费资源。Lettled EDI超纯水设备采用独i特的靶向离子交换系统，用于对超纯水中难处理的硼和其它离子的定向去除，同时也可以连续、稳定地产生高纯度的超纯水。应用于晶圆、电子芯片、集成电路、精密仪器、电镀涂装、***稀释、氟化工等行业。

该装置通过预处理、反渗透、超纯化、后级处理等方法，对水中的导电介质几乎完全去除，同时对水中不离解的胶体物质、气体和有机物进行去除。超纯水系统设备脱盐核i心部件是反渗透膜组件，超纯水系统设备一般由预处理、反渗透主机和后处理三部分组成。EDI处理装置废水产量低，对环境无污染，具有极高的环境效益、经济效益。经过技术改造后，可以不需要任何操作就可以稳定运行两年，其出水水质达到芯片生产用水的相关标准，降低了企业的生产风险和成本。

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电导率低于15μ S/cm的纯水，电镀涂装行业为提高表面光洁度、亮度、附着力，在电镀工业中，为提高表面光洁度、亮度、附着力，还要求纯水电导率低于15μ S/cm。在传统的电镀行业中，超纯水的制备一般采用离子交换树脂来完成，这就需要经常进行树脂再生，既费力又费力，采用反渗透技术+ EDI+抛光混合床系统制备超纯水，是一种纯物理过程，可达到高达18 MΩ CM (25℃)的要求，采用反渗透技术+ EDI+抛光混合床系统制备超纯水，其优点是可以重复使用，无需污染，成本低廉。

超纯水设备在电镀工业中的应用主要有几个方面：

高纯水用于电镀(镀金、镀银、镀络、塑料电镀、镀铬、镀锌)、玻璃镀膜等。

超声清洗，超音波清洗用纯水，化学镀，电泳纯净水。

轿车、家用电器、建筑材料表面的纯净水。

其他需要表面处理的纯净水。

通常由石英砂滤器、活性炭过滤器、钠离子软化器、精密过滤器等组成的预处理系统，主要包括 RO反渗透主机系统、离子交换混床系统、 EDI电除盐系统等。通过多年的实践，将反渗透技术与 EDI装置相结合制备超纯水，具有较好的应用价值，易于实现自动化控制，产水水质稳定，具有很大的经济效益。

超纯水设备采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备相结合的方式来制取超纯水，这是一种制取超纯水的新工艺，也是一种环保、经济、发展潜力巨大的超纯水制备工艺，与传统方法相比，该设备具有以下优势：

1、无需使用任何再生***进行再生，减少了***运输问题，同时降低了系统运行费用。

2、无需中和药剂。EDI膜块不会有酸碱废液产生，所以不需要酸碱中和池。

3、整套系统运行成本较低。设备主要是消耗电量来维持系统运行，反渗透相比混床的电费要高，但是没有再生***的费用，所以整体运行成本低比传统混床工艺低。

4、设备可以连续工作，无需树脂更换，自动化性能强，无需人工操作。

5、设备设计结构紧凑，占地面积小，安装方便。